真空鍍膜機(jī)的厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 

但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整。真空鍍膜機(jī)在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。真空鍍膜機(jī)的晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點問題，具體見下。

真空鍍膜機(jī)的操作程序

① 檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。

② 打開總電源開關(guān)，設(shè)備送電。

③ 低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。

④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。

⑤ 落下鐘罩。⑥ 啟動抽真空機(jī)械泵。

⑦ 開復(fù)合真空計電源a.左旋鈕“1”順時針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。b.低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當(dāng)指針移動至110mA時，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。

⑧ 當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。

⑨ 真空鍍膜機(jī)開通冷卻水，啟動擴(kuò)散泵，加熱40min。

⑩ 低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當(dāng)指針移動至6.7Pa時，開高壓閥（閥桿順時針旋轉(zhuǎn)）。

? 等低真空表“2”內(nèi)指針右移動至0.1Pa時，開規(guī)管燈絲開關(guān)。a. 發(fā)射、零點測量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。b. 左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。